洁美科技：柔创纳米未来将开发选择性原子层沉积与刻蚀技术与装备

　　同花顺300033）金融研究中心05月06日讯，有投资者向洁美科技002859）提问， 你好，公司参股11%的子公司柔创纳米已成功开发并实现销售的ALD包覆设备，实现了我国在该领域的突破，是继美国之后世界第二家实现该技术产业化的国家。根据其子公司武汉柔电官网，目前其ALD设备主要应用在锂离子电池负极材料或者隔膜材料的改性上，未来该产品是否会寻求在半导体制程方面突破？

　　公司回答表示，柔创纳米现阶段仍然以ALD在硅碳负极和固态电池材料领域为突破口，未来将会围绕选择性原子层沉积与刻蚀技术与装备进行开发，有望应用在半导体方面。